英偉達(dá)秘密研發(fā)四年，面向芯片制造業(yè)推出突破性的光刻計(jì)算庫(kù)cuLitho，將計(jì)算光刻加速40倍以上，使得2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)成為可能。全球最大晶圓廠臺(tái)積電、全球光刻機(jī)霸主阿斯麥、全球最大EDA巨頭新思科技均參與合作并引入這項(xiàng)技術(shù)。

計(jì)算光刻是提高光刻分辨率、推動(dòng)芯片制造達(dá)到2nm及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵手段。

“計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)?！秉S仁勛講解道，“大型數(shù)據(jù)中心24x7全天候運(yùn)行，以便創(chuàng)建用于光刻系統(tǒng)的掩膜板。這些數(shù)據(jù)中心是芯片制造商每年投資近2000億美元的資本支出的一部分?！?/p>

而cuLitho能夠?qū)⒂?jì)算光刻的速度提高到原來(lái)的40倍。老黃說(shuō)，英偉達(dá)H100 GPU需要89塊掩膜板，在CPU上運(yùn)行時(shí)，處理單個(gè)掩膜板需要兩周時(shí)間，而在GPU上運(yùn)行cuLitho只需8小時(shí)。

此外，臺(tái)積電可通過(guò)在500個(gè)DGX H100系統(tǒng)上使用cuLitho加速，將功率從35MW降至5MW，替代此前用于計(jì)算光刻的40000臺(tái)CPU服務(wù)器。 使用cuLitho的晶圓廠，每天可以生產(chǎn)3-5倍多的光掩膜，僅使用當(dāng)前配置電力的1/9。

全球最大晶圓廠臺(tái)積電、全球最大光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）、全球最大EDA公司新思科技（Synopsys）都為這項(xiàng)新技術(shù)站臺(tái)。老黃透露道，cuLitho歷時(shí)四年研發(fā)，與這三家芯片大廠進(jìn)行了密切合作。臺(tái)積電將于6月開(kāi)始對(duì)cuLitho進(jìn)行生產(chǎn)資格認(rèn)證。